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1. 磁控等离子多弧真空溅射镀膜机在陶瓷表面装饰的应用
庄大宇 文献来自: 中国硅酸盐学会陶瓷分会2006学术年会论文专辑(下) 2006年 CAJ下载
使用磁控等离子多弧真空溅射镀膜机在陶瓷 表面加工黄金色和铂金色(银色),取代传统的用黄金 和铂金进行装饰完全是可行的。 (2)钦块材料成本低廉,采殉方便,国内储量丰 富,因此生产成本大大降低。 (3)由于工件在真空 ...
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2. 新型多弧离子镀膜机自动控制系统
冯占英,曹文鹏,周正干,刘琭凌 文献来自: 真空电子技术 2005年 第05期 CAJ下载 PDF下载
控制系统包括IIC、PLC、压强仪、流量计、温控仪和电器控制柜等。2005-05 1 9图1镀膜机组成示意图1·2多弧离子镀膜工艺要求多弧离子镀膜是以多个金属蒸发源(也称弧源或靶源)作为阴极,并与阳极之间产生弧光放电,靶材蒸发粒子离化后与通入工作室的气体发生反应,生 ...
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3. 非平衡磁控溅射系统的研究
何万强,雷旭,徐新乐 文献来自: 新技术新工艺 2002年 第06期 CAJ下载 PDF下载
中离子 /原子的比例。非平衡磁控溅射系统的应用 非平衡磁控溅射系统的出现 ,极大地扩展了磁控溅射镀膜技术的应用。下面仅举几例 :Zehnder和Patscheider利用非平衡磁控溅射系统组成的封闭非平衡磁控溅 ...
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4. 大面积反应溅射技术的最新进展及应用
姜燮昌 文献来自: 真空 2002年 第03期 CAJ下载 PDF下载
磁控溅射已经成为沉积薄膜的最重要的方法之一。然而 ,这种镀膜技术亦存在一些缺点 (例如 ,有限的溅射产额和反应溅射过程中等离子体不稳定等问题 ) ,所以它不适宜于在介质膜工业生产中应用。本文介绍了一种新的中频 (MF)电源供电的孪生靶磁控溅射。采用这种技术并结合智能...
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5. 非平衡磁控溅射及其应用
董骐,范毓殿 文献来自: 真空科学与技术学报 1996年 第01期 CAJ下载 PDF下载
北京100084非平衡磁控溅射;;阴极电弧;;离子镀磁控溅射镀膜技术由于其显著的特点已经得到广泛的应用。但是常规磁控溅射靶表面横向磁场紧紧地束缚带电粒子,使得在镀膜区域的离子密度很低,一定程度上削弱了等离子体镀膜的优势。通过有意识地 ...
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6. MM-1000多靶反应磁控溅射镀膜机的研制
常鸿 文献来自: 中国核科技报告 2002年 第00期 CAJ下载 PDF下载
为反应磁控溅射制籍介质膜提供了一个新的方向。 我们最近研制的MM.1000多靶反应磁控镀膜机,在原有的磁控溅射镀膜机的基础上,通过改进部分结构设计,已成功地在玻璃表面镀制出了完美的Ti02/Si02彩色介质膜。1设备 ...
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7. 镀膜机的微机控制
陈玲玲,李国卿,黄开玉,关秉羽,汪思源 文献来自: 真空 2003年 第06期 CAJ下载 PDF下载
本项计算机控制系统旨在满足磁控溅射———多弧镀膜机复杂工艺系统的要求。1 镀膜系统要求本真空镀膜设备 ,由真空系统、真空室、磁控溅射、多弧、偏压电源、加热系统、供气系统以及相应的测量系统组成。在执行镀膜工艺过程中 ,分别顺序交替进行抽真 ...
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8. 中频磁控溅射制备AIN薄膜及其离子注入研究
黎明锴 文献来自: 武汉大学 2004年 博士论文 CAJ下载 在线阅读 分章下载 分页下载
@AIN的制备方法#8 第二节@中频磁控溅射制备AIN薄膜#11 1.@磁控溅射#11 2.@中频磁控溅射的特点#13 3.@制备AIN薄膜#14 第三节@AIN的成分与结构#17 1 ...
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9. 多功能复合离子镀膜机的研制
陈庆川,童洪辉,崔西蓉,耿漫,王经权 文献来自: 2000年材料科学与工程新进展(上)——2000年中国材料研讨会论文集 2000年 CAJ下载
采用脉冲偏压电源可原位实现高频氮化及镀膜的连续二重工艺。为了能实时监测及控制镀膜时的工艺温度,我们在镀膜室内还设有热偶探头,热偶探头所测得的工艺温度作为反馈信号被输人到PLC可编程控制器中,当镀膜温度偏离工艺设定值时,PLC自动控制系统会自动调节 ...
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10. 轴瓦磁控溅射镀膜技术及其材料力学性能研究
郭亚军 文献来自: 哈尔滨工程大学 2002年 博士论文 CAJ下载 在线阅读 分章下载 分页下载
随着造船和汽车工业的发展,人们对发动机的功率和转速指标要求越来越高,因而对轴瓦、衬套等耐磨零件的服役性能要求也越来越苛刻。例如新型柴油机要求的负荷极限远远高于400N/mm~2油膜峰压(相应的比压约为60N/mm~2),同时对寿命的要求也大大提高,而且还要保证运行的可靠...
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